Ion Milling System

Met een Ar-plasma bundel worden doorsneden gemaakt van dunne doorsneden of lagen, typisch tot 500µm. De dikte wordt beperkt vanuit economische en bewerkingstijd overwegingen. Bij de bewerking wordt een deformatie vrij oppervlak gecreeerd. Uitermate geschikt voor onderzoek aan doorsneden van dunne lagen (vanaf 2-3nm). Denk aan atomic layer depositie (ALD). Ook kunnen oppervlakken van doorsneden worden gepolijst (flat milling) waarbij enkele nano-meters aan materiaal wordt verwijderd. Geschikt voor het maken van deformatie vrije oppervlakken voor bijvoorbeeld EBSD (Electron Beam Scattering Diffraction) analyse.

Monsterafmetingen: LxBxH - 20x10x5 mm

Doorsnede breedte: 1-2mm

Bewerkingstijd afhankelijk van monster materiaal en dikte: 10 min tot 2 uur

Positionering: standaard totop 10µm, mogelijk tot op 1µm.

Maximale monster oppervlakte temperatuur ca 80°C

Maken van doorsneden en oppervlakte polijsten van metallografische doorsneden

Materialen: alle. Beperking voor warmte gevoelige materialen

Scanning Elektronen microscopie

EDS en WDS element analyse

EBSD: kristallografische karakterisering met behulp van Electron Beam Scattering Diffraction

Doorsneden van dunne lagen (vanaf ca 2 nm)

Voorbewerking voor EBSD (electron Beam Scattering Diffraction) analyses

Reinigen van oppervlakken: verwijderen van oxidatie voor onderzoek

Verwijderen van laatste mechanische deformaties na metallografische preparatie van doorsneden

Karakterisering van dunne lagen of materialen die gevoelig zijn voor versmering bij mechanisch prepareren